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詳解MOS器件的重要特性(圖文)

時(shí)間:2018-12-21 14:22:54來源:網(wǎng)絡(luò) 作者:電子愛好者 點(diǎn)擊:
一、為什么E-MOSFET的閾值電壓隨著半導(dǎo)體襯底摻雜濃度的提高而增大?而隨著溫度的升高而下降?
  【答】E-MOSFET的閾值電壓就是使半導(dǎo)體表面產(chǎn)生反型層(導(dǎo)電溝道)所需

  ②對于CMOS器件:在CMOS器件的芯片中,存在著npnp的四層結(jié)構(gòu)——晶閘管。當(dāng)其中的BJT因?yàn)闊犭娮有?yīng)而導(dǎo)通時(shí),即可發(fā)生所謂“閂鎖效應(yīng)”、而導(dǎo)致器件失效。
  ③對于VDMOSFET:觀察圖3(b)中的結(jié)構(gòu),即可見到,當(dāng)器件正向?qū)〞r(shí),其中存在一個(gè)工作于放大狀態(tài)的寄生n-p-n晶體管(n+源區(qū)是發(fā)射區(qū),n-外延層是集電區(qū),p溝道是基區(qū))。該寄生晶體管的可能導(dǎo)電通道是與MOSFET的ID相并聯(lián)的,故在VDMOSFET工作時(shí),必須要注意防止寄生晶體管導(dǎo)通;否則,寄生晶體管的導(dǎo)通就可能引起二次擊穿,使得功率MOSFET完全失去功能。
  為了避免VDMOSFET在正向工作時(shí)、其中寄生n-p-n晶體管的導(dǎo)通,可以設(shè)法使寄生晶體管的電流放大系數(shù)變得很小、甚至減至為0——采用“陰極短路技術(shù)”,即把寄生晶體管的發(fā)射極與基極短接起來,工藝上就通過把發(fā)射區(qū)(源極區(qū))的金屬電極延伸到溝道體區(qū)的表面上來實(shí)現(xiàn)。因?yàn)檫@種陰極短路結(jié)構(gòu)截?cái)嗔税l(fā)射極注入載流子的功能,所以能夠防止寄生晶體管的導(dǎo)通。
  對于VDMOSFET,在采用了陰極短路結(jié)構(gòu)之后,實(shí)際上又恰恰在器件內(nèi)部形成了一個(gè)p-n-n+二極管,這個(gè)二極管與VDMOSFET是反向并聯(lián)的,這也就順便地在VDMOSFET中設(shè)置了一個(gè)阻尼二極管(續(xù)流二極管),該二極管對于泄放反向電動勢、防止主體晶體管的擊穿具有重要作用。
  十四、為什么在VDMOSFET中存在有JFET的作用?有何不良影響?


  【答】如圖4所示,源-漏電流是從芯片表面向下流動的,并在電流通路的兩側(cè)是pn結(jié),因此這種電流輸運(yùn)的過程,從工作原理上來看,就相當(dāng)于是一個(gè)寄生JFET。從而可以把VDMOSFET等效為一個(gè)MOSFET與一個(gè)寄生JFET的串聯(lián)組合,其中很大部分n-漂移區(qū)就相當(dāng)于是寄生JFET的溝道。
  由于JFET的輸出交流電阻非常大,同時(shí)也因?yàn)檩^高的源-漏電壓而具有很大的輸出直流電阻,所以就使得VDMOSFET的導(dǎo)通電阻大大增加,因此n-漂移區(qū)的厚度和摻雜濃度對整個(gè)器件性能的影響都較大。
  為了消除VDMOSFET中寄生JFET的影響,以降低導(dǎo)通電阻,就必須在結(jié)構(gòu)上加以改變,由此發(fā)展出了V形槽柵、U形槽柵和溝槽(Trench)柵等結(jié)構(gòu)的MOSFET。
  十五、IGBT和MCT都是MOS柵極控制的功率場效應(yīng)晶體管,為什么說它們是兩種完全不同的器件?
  【答】IGBT(絕緣柵雙極型場效應(yīng)晶體管)和MCT(MOS控制晶閘管)的共同點(diǎn)主要有:
  ①都是MOS柵極控制的器件,則具有功率場效應(yīng)晶體管的優(yōu)點(diǎn);②在結(jié)構(gòu)上,其中都存在著四層、三結(jié)的晶閘管結(jié)構(gòu),因此在一定條件下會出現(xiàn)陽極電流閂鎖效應(yīng);③它們都可以采用多個(gè)元胞并聯(lián)的結(jié)構(gòu),因此可以獲得很大的工作電流;④它們都是有兩種載流子參與工作的器件,因此都是雙極型的場效應(yīng)晶體管,導(dǎo)通電阻低,但開關(guān)速度也相對地要比MOSFET的低。
  IGBT和MCT的最大不同點(diǎn)就在于它們的工作狀態(tài)和性質(zhì)不相同,因此說它們是兩種完全不同的器件:
  ①IGBT的工作電流主要是通過MOS溝道的電流,而其中的晶閘管電流是需要極力避免的(IGBT的最大工作電流——擎住電流就是其中晶閘管不導(dǎo)通時(shí)的電流),因此從本質(zhì)上來看,IGBT基本上是一種MOSFET,因此IGBT具有MOS器件的許多優(yōu)點(diǎn),例如較強(qiáng)的柵極的控制能力和較低的驅(qū)動功率(因?yàn)橛泻艽蟮妮斎腚娮韬洼^小的輸入電容之故)。
  而MCT與IGBT的恰恰相反,它的工作電流主要是晶閘管電流,至于MOS溝道的電流,則主要是起著觸發(fā)晶閘管導(dǎo)通或者關(guān)斷的作用,不是MCT的主要工作電流,因此從本質(zhì)上來看,MCT基本上是一種晶閘管——雙極型器件,從而MCT具有導(dǎo)通電阻很低、耐壓很高、功率容量很大的優(yōu)點(diǎn)。
  ②IGBT雖然在本質(zhì)上是一種MOS器件,但又不同于一般的MOSFET,因?yàn)镮GBT在導(dǎo)通工作時(shí),有少數(shù)載流子注入到高阻的耐壓層(漂移區(qū)),可以產(chǎn)生電導(dǎo)調(diào)制,則它的導(dǎo)通電阻較小,增大了器件的電流容量(電流密度要比VDMOSFET的高2~3倍);同時(shí)由于高阻耐壓層的引入而提高了工作電壓。因此IGBT的功率容量很大。只是IGBT的開關(guān)速度,由于少數(shù)載流子的引入而相應(yīng)地有所降低。
  ③雖然MCT本質(zhì)上是一種晶閘管,而且MOS柵極可以關(guān)斷陽極電流,但MCT又不同于一般的可關(guān)斷晶閘管(GTO)。因?yàn)镸CT實(shí)際上是一種把單極型的MOSFET與雙極型的晶閘管組合而成的復(fù)合型器件,也是一種所謂Bi-MOS器件,所以它具有MOS器件和雙極型器件二者的長處:較強(qiáng)的柵極控制能力,較低的驅(qū)動功率,較高的開關(guān)速度,較大功率容量。

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